Você já sabe que chips de silício são gravados usando litografia ultravioleta profunda, mas você não deve saber que já atingimos o limite do que podemos fazer usando raios ultravioleta. Felizmente, um novo tipo de luz, chamado ultravioleta extrema (EUV), está para cair nas mãos de fabricantes de chips – e isso deve contribuir para seu processador continuar seguindo a Lei de Moore.

Atualmente, os chips são gravados com luz ultravioleta profunda que tem um comprimento de onda de 193 nanômetros. Mas com as geometrias de produção encolhendo – a 28 nanômetros em alguns casos – para espremer os chips, fabricantes atingiram um limite.

Entra em ação a ultravioleta extrema: radiação de alta energia com comprimentos de onda entre 124 e 10 nanômetros. Há alguns anos novos rumos da fabricação de chips são discutidos, e os comprimentos de ondas menores da ultravioleta extrema oferecem mais precisão. Mas eles sempre enfrentaram um problema: a dificuldade em criar EUV forte o suficiente. Sem intensidade, é bastante complicado – ou até impossível – gravar chips.

Agora, no entanto, a desenvolvedora de tecnologia de fundição ASML anunciou um protótipo de dispositivo EUV comercial que pode produzir luz com 80 watts de potência neste ano, e, possivelmente, 250 em 2014. Ainda está bem abaixo da demanda da Intel – recentemente a empresa afirmou precisar de EUV que produz 1000 watts para atingir sua demanda – mas é o suficiente para a ASML acreditar que o ultravioleta extremo seja algo real a partir de 2015.

E, sinceramente, é bom que seja. Em 2015, fabricantes de chips querem atingir geometrias de produção de 10nm – o que é atualmente impossível com as luzes ultravioleta normais. É hora de algo mais extremo. [Hot Hardware via Slashdot]

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